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光譜儀使用之後如何有效清洗

發表時間₪✘:2022-10-20  |  點選率₪✘:270
  ICP的基本結構包括₪✘:等離子體光源▩╃、進樣系統▩╃、氣體控制系統▩╃、光學系統▩╃、檢測器和資料處理系統↟↟,每一部分又包括著不同的部件↟↟,如進樣系統裡的矩管▩╃、霧化器和霧室等▩••◕▩。
  光譜儀在使用之後應該如何有效清洗配件結構↟│↟✘?
  進樣系統的清洗
  1矩管的清洗
  (1)鹽分沉積——將矩管倒扣↟↟,放入裝有1₪✘:1硝酸的燒杯中浸泡24小時↟↟,以除去矩管上的積鹽;
  (2)金屬沉積——卸下石英矩管↟↟,將噴嘴進入熱酸中(稀王水▩╃、硝酸或鹽酸)中;
  (3)碳沉積——將矩管放入750℃馬弗爐中↟↟,開啟馬弗爐幾秒鐘↟↟,讓空氣進入↟↟,再次將溫度升至750℃▩••◕▩。重複幾次以清除碳沉積↟↟,待馬弗爐冷卻後↟↟,再將石英矩管取出▩••◕▩。清洗後↟↟,使用去離子水沖洗↟↟,吹乾▩••◕▩。
  2霧室和霧化器的清洗
  (1)玻璃混合霧化室的清洗
  如果霧化室壁上有掛水珠↟↟,這些大液滴排出時↟↟,會引起霧化室內壓力變化從而導致樣品霧化效率降低▩••◕▩。因此↟↟,可以拆除霧室↟↟,浸泡於10%左右的稀硝酸中↟↟,保持低溫微沸煮半小時以上↟↟,再用去離子水清洗↟↟,吹乾▩••◕▩。
  (2)霧化器堵塞的去除
  ①將進樣管拆除↟↟,霧化器噴嘴朝上輕輕敲擊以使顆粒物鬆散↟↟,並在重力作用下排出;
  ②在噴嘴處接入壓縮空氣(15~30psig)“反吹”噴嘴和環面↟↟,用手指堵住進樣口和載氣口↟↟,然後突然釋放進樣口以清除毛細管顆粒堵塞↟↟,或突然釋放載氣口以清除載氣顆粒堵塞;
  ③在噴嘴處反向通入異丙醇↟↟,使顆粒物流出;
  ④氣路中可能有PTEE碎屑時↟↟,將霧化器噴嘴浸到熱水中↟↟,並在側壁加壓↟↟,熱水使聚合物分散並從噴嘴排出;
  ⑤對於矽類顆粒堵塞↟↟,可使用3%~5%氫氟酸清洗↟↟,吸取清洗液5~10秒後↟↟,立即用大量清水沖洗↟↟,重複3~5次▩••◕▩。注意₪✘:氫氟酸有毒性↟↟,使用時應戴好手套↟↟,做好防護措施↟↟,氫氟酸清洗的時間和濃度要準確控制↟↟,清洗後應*清除氫氟酸並使霧化器乾燥↟↟,以防止氫氟酸對噴嘴處毛細管的腐蝕▩••◕▩。
  ⑤切勿使用超聲波清洗霧化器↟↟,因為毛細管中會有共振↟↟,碰到噴嘴的內壁會使毛細管口破裂↟↟,霧化器效能大大降低▩••◕▩。
  迴圈冷卻水機清洗
  冷卻水的溫度設定一般要比室溫低5℃↟↟,每小時的溫度變化不超過0.2℃↟↟,至少每半年進行一次清洗↟↟,清洗步驟如下₪✘:
  ①從儀器迴流到冷水機的進水端處卸下管子;
  ②旋開排水口閥門↟↟,排淨水箱中的水;
  ③在水箱中加入去離子水至水箱綠色和黃色刻線中間;
  ④旋上排水口閥門↟↟,接好進水端管子↟↟,開啟電源↟↟,清洗系統▩••◕▩。
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